电压控制:首先在氧化过程中需要注意电压控制。如果一次性升至高电压可能会将氧化膜烧坏。
冷冻机:一般氧基氧化温度是控制在16-24度,但是硬阳电压电流密度大热量也随之变大.
而且硬阳氧化槽的药水温度一般在5度以下,所以需要大功率的冷冻机才能达到所设定的温度
电解液:硬阳所使用的电解液与一般阳极氧化一样都是硫酸.
只是硬阳的硫酸浓度需要更低一般低于15%,而且为了提高硬度还会添加特定的有机酸在硫酸中。
氧化时长:氧化时间比一般阳极氧化要长很多,在极低温的电解槽中氧化膜的生成反应与溶解反应自然就显得慢,也因为如此,慢慢形成的氧化膜结构才会扎实,硬度就自然会提高
所以需要较长的氧化时间。
完成后硬质阳极氧化膜的厚度,最高可以达到250um,硬度的表现可以达到500HV左右,纯铝硬度则可以更高